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1200℃七溫區(qū)獨(dú)立控制管式爐OTF-1200X-VII（定制）采用獨(dú)立的溫控裝置，可離開爐體進(jìn)行溫控操作，通過調(diào)節(jié)各個(gè)溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區(qū)域。本機(jī)具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

1200℃五溫區(qū)獨(dú)立控制管式爐OTF-1200X-V（定制）采用獨(dú)立的溫控裝置，可離開爐體進(jìn)行溫控操作，通過調(diào)節(jié)各個(gè)溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區(qū)域。本機(jī)具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1200X-V每個(gè)溫區(qū)分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，通過調(diào)節(jié)各個(gè)溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區(qū)域。本機(jī)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)或小批量生產(chǎn)，主要針對(duì)電子陶瓷的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）等工藝。具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1200X-Ⅲ-S每個(gè)溫區(qū)分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多等特點(diǎn)。本機(jī)可通氣氛抽真空，操作簡(jiǎn)單，安全可靠。

1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐OTF-1200X-IIZ高溫度可達(dá)到1200℃，并可通過調(diào)節(jié)兩個(gè)獨(dú)立的控溫程序，使?fàn)t管內(nèi)溫度場(chǎng)形成一梯度。本機(jī)可用CVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

1200℃開啟式管式爐OTF-1200X-5L是一款單溫區(qū)管式爐，爐管直徑Φ 5″，長1400mm ，Z高溫度可達(dá)到1200℃。本機(jī)可在各種氣氛保護(hù)下對(duì)樣品進(jìn)行熱處理、沉積、燒結(jié)，是一款的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。