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UNIPOL-1220M型全自動(dòng)金相磨拋系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述:UNIPOL-1220M型全自動(dòng)金相磨拋系統(tǒng),包含定位載料盤(pán)、研磨拋光單元、清洗單元以及供料單元,可以實(shí)現(xiàn)從取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動(dòng)流程,通過(guò)觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數(shù),并能進(jìn)行參數(shù)設(shè)定存檔,并可一鍵啟動(dòng)程序,從而實(shí)現(xiàn)樣品自動(dòng)化操作的一致性。且可選配自動(dòng)鑲嵌機(jī)進(jìn)行聯(lián)動(dòng)、實(shí)現(xiàn)鑲嵌、磨拋、清洗全自動(dòng)化流程,適用于金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復(fù)性和一致性

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-02-08
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:731

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間5萬(wàn)-10萬(wàn)
產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域地礦,能源,鋼鐵/金屬,航空航天,綜合

產(chǎn)品簡(jiǎn)介UNIPOL-1220M型全自動(dòng)金相磨拋系統(tǒng)

UNIPOL-1220M型全自動(dòng)金相磨拋系統(tǒng),包含定位載料盤(pán)、研磨拋光單元、清洗單元以及供料單元,可以實(shí)現(xiàn)從取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動(dòng)流程,通過(guò)觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數(shù),并能進(jìn)行參數(shù)設(shè)定存檔,并可一鍵啟動(dòng)程序,從而實(shí)現(xiàn)樣品自動(dòng)化操作的一致性。且可選配自動(dòng)鑲嵌機(jī)進(jìn)行聯(lián)動(dòng)、實(shí)現(xiàn)鑲嵌、磨拋、清洗全自動(dòng)化流程,適用于金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復(fù)性和一致性實(shí)驗(yàn),以及需要大批量制樣的材料研究行業(yè)工作者。

主要特點(diǎn)UNIPOL-1220M型全自動(dòng)金相磨拋系統(tǒng)

  • 全自動(dòng)取樣+研磨拋光+清洗一次完成,節(jié)省人力。至多同時(shí)完成6個(gè)試樣。

  • 自動(dòng)抓取樣品進(jìn)行研磨拋光。過(guò)程中可自動(dòng)更換不同粒度的研磨砂紙和拋光墊。

  • 研磨時(shí),氣動(dòng)單點(diǎn)加壓樣品,施力平均。

  • 研磨時(shí),研磨盤(pán)上盤(pán)和下盤(pán)轉(zhuǎn)速可任意調(diào)整,具有低轉(zhuǎn)速高扭力的特點(diǎn),方便使用。

  • 氣壓壓力通過(guò)節(jié)流閥控制和調(diào)整,根據(jù)樣品不同材質(zhì),任意調(diào)整所需壓力。

  • 配備多組滴料裝置,搭配使用,靈活性高。

  • 整機(jī)外殼鋼板烤漆,耐用安全性高。

  • 方便的觸控式人機(jī)操作界面,具備可編程的軟件系統(tǒng)及程序儲(chǔ)存。

  • 包含多種材料數(shù)據(jù)庫(kù),可滿(mǎn)足對(duì)金屬、陶瓷、巖樣、電子器件等材料的重復(fù)性和一致性實(shí)驗(yàn)。

  • 通過(guò)超聲和風(fēng)干模塊實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品進(jìn)行清洗,確保下一道工序不會(huì)被上一道工序殘留物污染。

技術(shù)參數(shù)UNIPOL-1220M型全自動(dòng)金相磨拋系統(tǒng)

產(chǎn)品名稱(chēng)

UNIPOL-1220M型全自動(dòng)金相磨拋系統(tǒng)

產(chǎn)品規(guī)格

UNIPOL-1220M

主要參數(shù)

1、樣品直徑:Φ25mm

2、磨盤(pán)直徑:Φ300mm

3、一次加工樣品數(shù)量:6個(gè)

4、磨拋壓力頭轉(zhuǎn)速:10-60rpm

5、樣品磨拋壓力:10-50N(單個(gè)樣品)

6、磨拋盤(pán)轉(zhuǎn)速:50-300rpm

7、磨拋片庫(kù)量:16個(gè)

8、磨料供給種類(lèi):4組

9、清洗方式:超聲波清洗

10、外形尺寸:1650*800*1750

使用環(huán)境

1、水源:清潔水源,水壓0.3-0.4MPa

2、氣源:清潔氣源,氣壓≥0.7MPa,過(guò)濾精度5微米

3、通風(fēng)裝置:良好的通風(fēng)環(huán)境


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