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真空旋轉(zhuǎn)涂膜機是一種利用真空環(huán)境與旋轉(zhuǎn)離心力相結(jié)合實現(xiàn)薄膜均勻涂覆的高精度設(shè)備

更新時間:2025-04-09      點擊次數(shù):345
  真空旋轉(zhuǎn)涂膜機主要應(yīng)用于大專院校、科研院所的實驗室中,用于薄膜的生成過程。它適用于各種科研和工業(yè)應(yīng)用,特別是在半導(dǎo)體工藝和納米制造中‌。此外,該設(shè)備還廣泛應(yīng)用于材料科學、微電子學、光學、生物醫(yī)學等領(lǐng)域。真空旋轉(zhuǎn)涂膜機是一種利用真空環(huán)境與旋轉(zhuǎn)離心力相結(jié)合,實現(xiàn)薄膜均勻涂覆的高精度設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學、材料科學等領(lǐng)域。‌
 
  ‌真空旋轉(zhuǎn)涂膜機主要用于在實驗室中制備均勻、薄且高質(zhì)量的薄膜。‌它通過高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力將膠液均勻地涂覆在基片上,適用于各種科研和工業(yè)應(yīng)用,特別是在半導(dǎo)體工藝和納米制造中‌。
 
  真空旋轉(zhuǎn)涂膜機的基本工作原理是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上滴上各種膠液。利用離心力,膠液被均勻地涂覆在基片上。涂層的厚度取決于膠液和基片之間的粘滯系數(shù)、旋轉(zhuǎn)速度和時間‌。
 
  通過準確控制這些參數(shù),可以獲得厚度很均勻的涂層,這對于后續(xù)的工藝步驟很關(guān)鍵‌。
 
  特點:
 
  真空環(huán)境
 
  真空腔室有效避免外界雜質(zhì)干擾,確保薄膜純凈度。
 
  適用于對氧氣、水分敏感的材料涂覆,如半導(dǎo)體器件、光學元件等。
 
  旋轉(zhuǎn)離心力
 
  基片高速旋轉(zhuǎn)(轉(zhuǎn)速范圍通常為1000-10000rpm),利用離心力使溶液均勻鋪展。
 
  薄膜厚度可通過調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速、旋轉(zhuǎn)時間和溶液濃度準確控制。
 
  高精度與均勻性
 
  配備精密運動控制系統(tǒng),確保旋轉(zhuǎn)速度和時間的穩(wěn)定性,實現(xiàn)高均勻度涂膜。
 
  適用于納米級薄膜制備,滿足半導(dǎo)體、納米科技等領(lǐng)域?qū)Ρ∧べ|(zhì)量的高要求。
 
  多功能性
 
  可涂覆多種材料,包括金屬、陶瓷、玻璃、聚合物等。
 
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