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1200℃立式真空小管式爐OTF-1200X-S-VT是一款小型開啟式立式管式爐，適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。采用PID控制器進行溫度調(diào)節(jié)，可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。

1200℃微型開啟式管式爐OTF-1200X-S是小型管式爐，Z高工作溫度為1200℃，Z大功率為1200W，可配置直徑為1″ 或2″的高純石英爐管。爐管兩端配置一對不銹鋼法蘭，設(shè)有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭，允許樣品在真空和氣體保護下進行燒結(jié)。

1400℃小型管式爐GSL-1400X是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設(shè)有兩個真密封法蘭，控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制，其控溫精度為±1℃，可設(shè)置30段升降溫程序，Z高溫度可達1400℃。

1400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-II以硅碳棒為加熱元件，采用S型單鉑銠熱電偶測溫和518P溫控儀自動控溫。本機設(shè)有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝，特別適合批量生產(chǎn)使用。

1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-Ⅲ以硅碳棒為加熱元件，采用S型單鉑銠熱電偶測溫和708P溫控儀自動控溫。本機設(shè)有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝，特別適合批量生產(chǎn)使用。

1500℃高溫真空管式爐GSL-1500X是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設(shè)有兩個真密封法蘭，控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制，其控溫精度為±1℃，可設(shè)置30段升降溫程序，Z高溫度可達1500℃。