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  • EQ-500SP注射泵

    EQ-500SP注射泵屬于推進式注射泵,注液速度可在一定范圍內(nèi)進行調(diào)節(jié),可根據(jù)實驗需求不同設(shè)置不同的注液速度,滿足不同實驗要求的需要。注射器的容積不同,裝液量有所不同,該設(shè)備標(biāo)配20ml注射器。

    更新日期:2023-11-08
    型號:
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • HVC-SKJ真空腔體

    HVC-SKJ真空腔體可用作于晶體生長爐爐腔,也可用于搭建其他真空系統(tǒng)。

    更新日期:2017-12-12
    型號:
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • HVC-SS高真空腔體

    HVC-SS高真空腔體用于自行搭建實驗真空系統(tǒng),如等離子濺射、CVD或ALD等實驗,同時也可作為高真空儲存箱。

    更新日期:2018-09-12
    型號:
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • HVMSS-SPC-2 2英寸高真空磁控濺射頭

    2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2可安裝直徑為2“的靶材,適用靶材種類較廣,如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。可與DC或RF電源配合使用。

    更新日期:2018-11-05
    型號:
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控濺射頭

    1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD可安裝直徑為1“的靶材??膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配,因此可濺射各種靶材(如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。且采用高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計,可提高鍍膜質(zhì)量。

    更新日期:2018-11-01
    型號:
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • RF-100-LD 100W小型手動匹配型射頻電源

    100W小型手動匹配型射頻電源RF-100-LD頻率為13.56MHz,專門與本司1“的磁控濺射頭配用,可搭建成一套較廉價的濺射鍍膜系統(tǒng),用于制作非導(dǎo)電薄膜。

    更新日期:2018-09-12
    型號:
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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