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TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)

簡要描述:TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學(xué)原理,對薄膜進(jìn)行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)根據(jù)反射回來的干涉光,用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計(jì)算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm,可同時(shí)完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜,還可以測量n和k值。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-07-20
  • 訪  問  量:2361

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域化工,石油,地礦,能源,綜合

產(chǎn)品名稱

TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)

產(chǎn)品型號(hào)

TF200-VIS

TF200-EXR

TF200-DUV

TF200-XNIR

主要特點(diǎn)

快速、準(zhǔn)確、無損、靈活、易用、性價(jià)比高

應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體(SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS,SOI等)

LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等)

LED (SiO2、光刻膠ITO等)

觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等)

汽車(防霧層、Hard Coating DLC等)

醫(yī)學(xué)


波長范圍

380-1050nm

380-1700nm

190-1100nm

900-1700nm

厚度范圍

50nm-40um

50nm-300um

1nm-30um

10um-3mm

準(zhǔn)確度取決于材料0.4%或2nm之間取較大者

2nm

2nm

1nm

10nm

精度

0.2nm

0.2nm

0.2nm

3nm

入射角

90°

90°

90°

90°

樣品材料

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

測量模式

反射/透射

反射/透射

反射/透射

反射/透射

光斑尺寸可選微光斑附件。

2mm

2mm

2mm

2mm

是否能在線

掃描選擇

XY可選

XY可選

XY可選

XY可選


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