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蒸發(fā)鍍膜儀是一種重要的薄膜制備設備

更新時間:2024-11-28      點擊次數(shù):1266
  ‌蒸發(fā)鍍膜儀‌是一種用于在真空環(huán)境中通過物理氣相沉積技術制備薄膜的設備。它主要用于在各種基材上沉積一層或多層薄膜,廣泛應用于電子、光學、材料科學等領域。
 
  蒸發(fā)鍍膜儀是一種用于在基底上制備均勻材料薄膜的設備,通過物理方法產(chǎn)生薄膜材料。其工作原理主要是利用加熱源(如電子束或電阻加熱)將材料加熱至高溫,使其蒸發(fā)并沉積在基底表面上,形成所需的薄膜。
 
  工作原理
 
  蒸發(fā)鍍膜儀的工作原理基于物理氣相沉積(PVD)技術。具體過程包括以下幾個步驟:
 
  ‌真空環(huán)境‌:使用真空泵將蒸發(fā)室內(nèi)的氣體抽出,創(chuàng)造一個高真空環(huán)境,以避免材料在蒸發(fā)過程中與氣體反應。
 
  ‌蒸發(fā)源‌:將待鍍材料放置在蒸發(fā)源(如鎢舟或電子束加熱器)上,通過電阻加熱、電子束加熱等方式使材料蒸發(fā)。
 
  ‌沉積‌:蒸發(fā)的材料在基片上沉積,形成所需的薄膜。
 
  特點:
 
  電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密度,可以蒸發(fā)高熔點材料,如W、Mo、Al2O3等,并可得到較高的蒸發(fā)速率。
 
  被蒸發(fā)材料置于水冷銅坩堝內(nèi),真空蒸發(fā)鍍膜機可避免坩堝材料污染,可制備高純薄膜。
 
  電子束蒸發(fā)粒子動能大,有利于獲得致密、結(jié)合力好的膜層。
 
  綜上所述,蒸發(fā)鍍膜儀是一種重要的薄膜制備設備,在多個領域都有廣泛的應用。在選購和維護時,需要充分考慮實際需求和預算。
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